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半导体硅片激光切割氮化晶圆激光打孔异形切片来图定制
发布时间:2023-10-12        浏览次数:20        返回列表


硅晶圆切割是半导体芯片封装的常用加工工艺。激光切割的关键指标要求是高速和窄切割线。高频、高能量的红外脉冲光纤激光适用于这样的应用。

晶圆的厚度一般不超过250um,激光切割深度一般为晶圆厚度的1/3。


核心提示:半导体硅片激光切割,氮化晶圆激光打孔
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