电级掩膜版、石英掩模版、方形阵列掩膜版、金属材料掩膜版、不锈钢掩模版、科学试验掩膜版、电子器件蒸发镀膜掩膜版、金属遮光罩、叉指电极掩膜版、溅射蒸镀掩膜版，精密加工来图定制生产加工。

掩膜版（Photomask），又被称为光罩、光掩膜、光刻技术掩膜版等，是微电子技术生产制造中光刻技术所采用的图型母版， 由透明的挡光塑料薄膜在全透明基材上产生掩膜图型，并且通过曝出将图型转印到生产基材上。掩膜版是芯片制造过 过程中的图型“胶片照片”，用以迁移精密加工电路原理，承载着图形创意和工艺等知识产权信息。掩模版用以处理芯片的大批量生产，是中下游生产工艺流程对接的关键所在一部分，是处理芯片精密度和品质的决策因素之一。

掩膜版依据基材材质不一样可以分为石英石掩膜版、小苏打掩膜版和其它（包括凸版、丝印网版）。石英掩膜版以 石英玻璃做为基板材料，电子光学透过率高，热膨胀率低，主要运用于低中精密度掩膜版；而凸版使用不饱和聚丁二烯树脂作为基板材料，主要用于液晶显示器（LCD）制造过程中的定向材料移印；菲林使用 PET 作为基板材料，主要用于电路板掩膜。